您查询的相关hs编码 15 条,您的查询关键词 848620
| HS编码 | 品名 | 实例汇总 | 申报要素·退税 | 编码对比 |
|---|---|---|---|---|
| 84862090.00 | 其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
(其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置) [Other machines and apparatus for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis] |
274条 | 查看详情 | -- |
| 84862010.00 | 氧化、扩散、退火及其他热处理设备
(氧化、扩散、退火及其他热处理设备制造半导体器件或集成电路用的) [Oxidation, diffusion, annealing and other heat treatment equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis] |
59条 | 查看详情 | 对比-84862090.00 |
| 84862049.00 | 其他制造半导体器件或集成电路用刻蚀及剥离设备
(其他制造半导体器件或集成电路用刻蚀及剥离设备) [Other etching and stripping equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis] |
50条 | 查看详情 | 对比-84862010.00 |
| 84862041.00 | 制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机
(制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机) [Dry plasma etching for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis] |
42条 | 查看详情 | 对比-84862049.00 |
| 84862021.00 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
(制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置化学气相沉积装置(CVD)) [Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis] |
32条 | 查看详情 | 对比-84862041.00 |
| 84862022.00 | 制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置
(制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置物理气相沉积装置(PVD)) [Physical Vapour Deposition(PVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis] |
26条 | 查看详情 | 对比-84862021.00 |
| 84862029.00 | 其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
(其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备) [Other film deposition equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis] |
22条 | 查看详情 | 对比-84862022.00 |
| 84862050.00 | 制造半导体器件或集成电路用离子注入机
(制造半导体器件或集成电路用离子注入机) [Ion implanters for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis] |
11条 | 查看详情 | 对比-84862029.00 |
| 84862031.10 | 制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（后道用）
(制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（后道用）) |
0条 | 查看详情 | 对比-84862050.00 |
| 84862031.30 | 制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用氟化氪（ KrF ）光刻机）
(制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用氟化氪（ KrF ）光刻机）) |
0条 | 查看详情 | 对比-84862031.10 |
| 84862031.20 | 制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用 I 线光刻机）
(制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用 I 线光刻机）) |
0条 | 查看详情 | 对比-84862031.30 |
| 84862031.90 | 其他制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机
(其他制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机) |
0条 | 查看详情 | 对比-84862031.20 |
| 84862039.30 | 制造半导体器件或集成电路用的氟化氩（ ArF ）光刻机（步进式除外）
(制造半导体器件或集成电路用的氟化氩（ ArF ）光刻机（步进式除外）) |
0条 | 查看详情 | 对比-84862031.90 |
| 84862039.20 | 制造半导体器件或集成电路用的氟化氪（ KrF ）光刻机（步进式除外）
(制造半导体器件或集成电路用的氟化氪（ KrF ）光刻机（步进式除外）) |
0条 | 查看详情 | 对比-84862039.30 |
| 84862039.50 | 制造半导体器件或集成电路用的极紫外（ EUV ）光刻机（步进式除外）
(制造半导体器件或集成电路用的极紫外（ EUV ）光刻机（步进式除外）) |
0条 | 查看详情 | 对比-84862039.20 |
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