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您查询的海关编码(HSCODE)[8486202100] 申报要素及申报实例(↓条)等详细信息
8486202100 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
商品编码 84862021.00 
商品名称 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
申报要素 1:品名;2:品牌类型;3:出口享惠情况;4:用途;5:功能;6:品牌(中文或外文名称);7:型号;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
法定第一单位 法定第二单位 千克
最惠国进口税率 0 普通进口税率 30% 暂定进口税率 -
消费税率 0% 增值税率 13%
出口关税率 0% 出口退税率 13%
海关监管条件 检验检疫类别
商品描述 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置化学气相沉积装置(CVD)
英文名称 Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis
个人行邮税号 无
海关监管条件 (无)HS法定检验检疫 (无)
许可证或批文代码 许可证或批文名称
检验检疫代码 名称
10位HS编码+3位CIQ代码(中国海关申报13位海关编码)
10位HS编码+3位CIQ代码 商品信息
8486202100.999 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置(化学气相沉积装置(CVD))
所属分类及章节、品目
类目 第十六类 机器、机械器具、电气设备及其零件;录音机及放声机、电视图像、声音的录制和重放设备及其零件、附件(84~85章)
章节 第八十四章 核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件
品目「8486」 专用于或主要用于制造半导体单晶柱或晶圆、半导体器件、集成电路或平板显示器的机器及装置;本章注释九(三)规定的机器及装置;零件及附件
84862 制造半导体器件或集成电路用的机器及装置:
8486202 薄膜沉积设备:
84862021 化学气相沉积装置(CVD)
申报实例汇总
HS编码 商品名称 商品规格
84862021.00 有机金属化学气相沉积炉 用于生产LED高亮度蓝绿光外延片|用于生产LED高亮度
84862021.00 化学气相沉积设备 (旧)(制作半导体专用)
84862021.00 金属有机物化学气相沉淀炉 (ICCCS19X2/生产半导体晶片用)
84862021.00 化学气相沉积设备/NOVELLUS/在 (D15498A)
84862021.00 金属有机物化学气相沉积设备 D-180
84862021.00 金属有机源气相沉积设备 D300
84862021.00 镀膜机 COATING MACHINE
84862021.00 化学气相沉积设备/WJ牌 WJ999
84862021.00 射频等离子增强化学气相沉积系统 P600
84862021.00 金属有机物化学气相沉积系统 CCS 19X2 Flip Top
84862021.00 金属有机物化学气相沉积台 E450LDM
84862021.00 气体混合柜成套散件/RESI 化学气相沉积设备,将沉积薄膜的气体按照要求混合
84862021.00 化学气相沉积设备 CONCEPT ONE
84862021.00 C-1淀积炉 型号C1
84862021.00 IC淀积炉 型号7000VTR,旧设备
84862021.00 钨膜化学气相沉积设备 C3 Altus NOVELLUS牌
84862021.00 太阳能减反射膜制造设备 Centrotherm牌,E2000 HT 410-4(4)
84862021.00 (旧)常压化学气相沉积设备 在硅片表面上沉积一层二氧化硅薄膜;;Watkins-Johnson
84862021.00 外延炉 用于半导体生产;使硅片上产生薄膜;LPE;PE2061S
84862021.00 等离子增强化学气相沉积硅镀膜系统主机 镀非晶和微晶膜,品牌:OERLIKON,型号:KAI MT
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