您查询的相关hs编码 15 条,您的查询关键词 3
| HS编码 | 品名 | 实例汇总 | 申报要素·退税 | 编码对比 |
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| 39059100.10 (增) | 乙烯-乙烯醇共聚物
(乙烯-乙烯醇共聚物) [Ethylene-vinyl alcohol copolymer] |
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| 38089119.30 (增) | 零售包装的含有灭蚁灵、十氯酮、汞的杀虫剂
(零售包装的含有灭蚁灵、十氯酮、汞的杀虫剂) [Retail packaged insecticides containing ant killer, decachlorane, and mercury] |
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| 32099020.20 (增) | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1
(同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1) [Antireflection film-forming solution used in integrated circuit production meeting the following criteria: volatile organic content > 700g/L, reflectance (N) 1-2.1, and absorption index (K) (248nm or 193nm wavelength test) 0-1] |
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| 32082010.30 (增) | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1
(同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1) [Antireflection film-forming solution used in integrated circuit production meeting the following criteria: volatile organic content > 700g/L, reflectance (N) 1-2.1, and absorption index (K) (248nm or 193nm wavelength test) 0-1] |
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| 39059100.90 (增) | 其他乙烯酯或乙烯基的共聚物
(其他乙烯酯或乙烯基的共聚物) [Other ethylene ester or vinyl copolymers] |
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| 39041090.00 (增) | 其他初级形状的纯聚氯乙烯，除聚氯乙烯糊树脂
(其他初级形状的纯聚氯乙烯，除聚氯乙烯糊树脂) [Other primary forms of pure polyvinyl chloride, excluding PVC paste resin] |
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| 38221900.30 (增) | 鲎试剂
(鲎试剂) [Horseshoe crab reagent] |
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| 38180090.20 (增) | 经掺杂用于电子工业的氮化镓、氧化镓、磷化镓、砷化镓、铟镓砷、硒化镓、锑化镓、磷锗锌、二氧化锗、四氯化锗
(经掺杂用于电子工业的氮化镓、氧化镓、磷化镓、砷化镓、铟镓砷、硒化镓、锑化镓、磷锗锌、二氧化锗、四氯化锗) [Doped gallium nitride, gallium oxide, gallium phosphide, gallium arsenide, indium gallium arsenide, gallium selenide, gallium antimonide, phosphorous germanium zinc, germanium dioxide, and germanium tetrachloride for electronic industry] |
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| 36010000.92 (增) | 单基双基发射药；黑火药；限于购买、销售、运输管理的民用推进剂
(单基双基发射药；黑火药；限于购买、销售、运输管理的民用推进剂) [Single-base and double-base propellants; black powder; civilian propellants restricted to purchase, sale, and transport management] |
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| 36010000.40 (增) | 模压的胶质推进剂；含硝化粘接剂及铝粉＞5%的推进剂
(模压的胶质推进剂；含硝化粘接剂及铝粉＞5%的推进剂) [Molded gel propellant; propellant containing nitrated binder and aluminum powder > 5%] |
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| 38011000.40 (增) | 纯度高于百万分之五硼量，密度大于1.50g/cm3的核级石墨；20℃下的密度、拉伸断裂应变、热膨胀系数符合特殊要求的人造细晶粒整体石墨；高纯度（>99.9%）、高强度（抗折强度>30M pa）、高密度（>1.73 克/立方厘米）的人造石墨
(纯度高于百万分之五硼量，密度大于1.50g/cm3的核级石墨；20℃下的密度、拉伸断裂应变、热膨胀系数符合特殊要求的人造细晶粒整体石墨；高纯度（>99.9%）、高强度（抗折强度>30M pa）、高密度（>1.73 克/立方厘米）的人造石墨) ["Nuclear-grade graphite with boron content higher than 5 parts per million and density greater than 1.50 g/cm³; artificial fine-grain integral graphite with density, tensile fracture strain, and thermal expansion coefficient meeting special requirements at 20°C; high purity (>99.9%), high strength (flexural strength >30M pa), and high density (>1.73 g/cm³) artificial graphite] |
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| 34029000.00 (增) | 非零售包装有机表面活性剂制品
(非零售包装有机表面活性剂制品) [Non-retail packaged organic surfactant products] |
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| 32091000.20 (增) | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1
(同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1) [Antireflection film-forming solution used in integrated circuit production meeting the following criteria: volatile organic content > 700g/L, reflectance (N) 1-2.1, and absorption index (K) (248nm or 193nm wavelength test) 0-1] |
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| 37019920.00 (增) | 照相制版用
(照相制版用) [Photographic printing plate use] |
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| 32082020.20 (增) | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1
(同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1) [Antireflection film-forming solution used in integrated circuit production meeting the following criteria: volatile organic content > 700g/L, reflectance (N) 1-2.1, and absorption index (K) (248nm or 193nm wavelength test) 0-1] |
0条 | 查看详情 | 对比-37019920.00 |