8486202200 制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置
| 商品编码 | 84862022.00 | ||||
| 商品名称 | 制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 | ||||
| 商品描述 | 制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置物理气相沉积装置(PVD) | ||||
| 英文名称 | Physical Vapour Deposition(PVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis | ||||
10位HS编码+3位CIQ代码(中国海关申报13位海关编码)
| 10位HS编码+3位CIQ代码 | 商品信息 |
| 8486202200.999 | 制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置(物理气相沉积装置(PVD)) |