8486202100 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
| 商品编码 | 84862021.00 | ||||
| 商品名称 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 | ||||
| 商品描述 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置化学气相沉积装置(CVD) | ||||
| 英文名称 | Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis | ||||
10位HS编码+3位CIQ代码(中国海关申报13位海关编码)
| 10位HS编码+3位CIQ代码 | 商品信息 |
| 8486202100.999 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置(化学气相沉积装置(CVD)) |
上一条CIQ：84862010.00-氧化、扩散、退火及其他热处理设备