您查询的海关编码(HSCODE)[3707909090] 申报要素及申报实例(↓条)等详细信息
3707909090 其他摄影用化学制剂
| 商品编码 | 37079090.90 | ||||
| 商品名称 | 其他摄影用化学制剂 | ||||
| 申报要素 | 1:品名;2:品牌类型;3:出口享惠情况;4:用途;5:包装规格;6:成分;7:是否含银;8:品牌（中文或外文名称）;9:型号;10:GTIN;11:CAS;12:其他; | ||||
| 法定第一单位 | 千克 | 法定第二单位 | 无 | ||
| 最惠国进口税率 | 0 | 普通进口税率 | 35% | 暂定进口税率 | - |
| 消费税率 | 0% | 增值税率 | 13% | ||
| 出口关税率 | 0% | 出口退税率 | 13% | ||
| 海关监管条件 | 无 | 检验检疫类别 | 无 | ||
| 商品描述 | 其他摄影用化学制剂包括摄影用未混合产品 | ||||
| 英文名称 | |||||
个人行邮税号 无
海关监管条件 (无)HS法定检验检疫 (无)
| 许可证或批文代码 | 许可证或批文名称 |
| 检验检疫代码 | 名称 |
10位HS编码+3位CIQ代码(中国海关申报13位海关编码)
| 10位HS编码+3位CIQ代码 | 商品信息 |
| 3707909090.301 | 其他摄影用化学制剂(包括摄影用未混合产品)(危险化学品，易燃液体) |
| 3707909090.302 | 其他摄影用化学制剂(包括摄影用未混合产品)(其他化工品) |
所属分类及章节、品目
| 类目 | 第六类 化学工业及其相关工业的产品 （28~38章） |
| 章节 | 第三十七章：照相及电影用品 |
| 品目「3707」 | 摄影用化学制剂（不包括上光漆、胶水、粘合剂及类似制剂）；摄影用未混合产品；定量包装或零售包装可立即使用的 |
| 37079 | 其他: |
| 37079090 | 其他 |
申报实例汇总
| HS编码 | 商品名称 | 商品规格 |
| 37079090.90 | PS版冲版液,用于PS版,包装:塑料桶,成份:水 | (磷酸二氢钠,参照归类问答书2004-564号型号:ENERGYEL) |
| 37079090.90 | 硅片生产用显影液 | (MF320200L/Drum) |
| 37079090.90 | 照排片定影液,用于激光照排片,包装:塑料桶,水 | (乙酸,硫代硫酸氨,参照归类问答书2004-564号,PFIX) |
| 37079090.90 | 富士PS版保护胶GU-7 | (1LX15) |
| 37079090.90 | 印刷保护胶 | (PLATEGUM) |
| 37079090.90 | 照排片显影液,用于激光照排片,包装:塑料桶,成份:水 | (碳酸钾,对苯二酚,参照归类问答书2004-564号,G101C1X1) |
| 37079090.90 | 显影液(200升)OPD-10C | 用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧 |
| 37079090.90 | 显影液(5升)HPRD-429 POSITIVERESIST DEVELOPE | 用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧 |
| 37079090.90 | 显影液(1000升)HPRD-429 POSITIVERESIST DEVEL | 用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧 |
| 37079090.90 | 显影液(200升) | 用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧 |
| 37079090.90 | 显影液(1000升) | 用于半导体硅片表面的清洁;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧 |
| 37079090.90 | 显影液(5升)POSITIVE RESISTDEVELOPER | 用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧 |
| 37079090.90 | 显影液(1000升)POSITIVE RESISTDEVELOPER | 用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧 |
| 37079090.90 | 显影液(5升)HPRD-429 POSITIVEDEVELOPER | 用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧化 |
| 37079090.90 | 显影液(200升)POSITIVE RESISTDEVELOPER | 用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧化 |
| 37079090.90 | 显影液1000升 POSITIVE RESISTDEVELOPER | 用于半导体硅片表面的清洗;;; |
| 37079090.90 | 显影液5升,HPRD-429 POSITIVERESIST DEVELOPER | 用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧 |
| 37079090.90 | 显影液200升,HPRD-429 POSITIVERESIST DEVELOPER | 用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧 |
| 37079090.90 | 显影液5升POSITIVE RESISTDEVELOPER | 用于半导体硅片表面的清洗;;; |
| 37079090.90 | 显影液200升OPD-10C | 用于半导体硅片表面的清洗;;;; |
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