3208100020 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1
| 商品编码 | 32081000.20 (增) | ||||
| 商品名称 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1 | ||||
| 商品描述 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1 | ||||
| 英文名称 | Antireflection film-forming solution used in integrated circuit production meeting the following criteria: volatile organic content > 700g/L, reflectance (N) 1-2.1, and absorption index (K) (248nm or 193nm wavelength test) 0-1 | ||||
10位HS编码+3位CIQ代码(中国海关申报13位海关编码)
| 10位HS编码+3位CIQ代码 | 商品信息 |
| 3208100020.301 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1(以聚酯为基本成分)（属于危险化学品的涂料,有涂料适用国标的） |
| 3208100020.302 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1(以聚酯为基本成分)（不属于危险化学品的涂料,有涂料适用国标的） |
| 3208100020.303 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1(以聚酯为基本成分)（危险化学品,无涂料适用国标的） |
| 3208100020.304 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1(以聚酯为基本成分)（其他化工品,无涂料适用国标的） |